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 研究组简介

 


     中国科学院电工研究所微纳加工实验室电子束曝光技术组主要从事微米、纳米尺度下微细加工技术的研究,发展在微米、纳米尺度下具有自主知识产权的专有技术,从而为我国微细加工设备的研究开发提供战略性技术储备。

    中国科学院电工研究所电子束曝光技术组是国家级专门从事电子束曝光技术研究的课题组,本课题组科研人员致力于涉及电子束曝光技术领域的专用设备的开发和研制。目前的科研工作方向主要有:纳米级电子束曝光机开发和研制、微机电系统开发和研制、DNA生命科学仪器开发和研制、扫描探针显微镜系统的开发和研制。
 
    本课题组自70年代末开始研究电子束曝光技术,并先后研制成功了国际上微电子专业设备发展中最重要的四类电子束曝光机:“六五”、“七五”期间研制成功了我国第一台微米级可变矩形电子束曝光机;“八五”期间实现了微米级可变矩形电子束曝光机在微电子生产线上的实用化;“九五”期间研制成功我国第一台 0.1um电子束曝光实验样机;1999年课题组承担了“缩小电子束投影曝光系统”的项目,经过两年多的不断努力课题组完成了缩小电子束曝光系统的研制工作,该系统是国际上的第三套同类型的装置(另外两套分别由IBM和BELL实验室完成)

    课题组在长期发展过程中建立了一整套以微细加工为目的的微细加工设备组和一个800平方米净化实验室。同时也拥有了一支掌握机械、真空和电子学等基础学科知识并使学科知识应用于实际工作中的科研队伍。目前课题组科研人员利用现有的电子束制版机为国内的科研机构和大专院校提供掩模板制作工艺等教学服务工作,国内的上百家科研用户受益于该课题组的科研教学服务。

    该课题组现有科研人员20名,其中高级职称人员6名,研究生24名。这是一支在首席科学家顾文琪研究员领导下的优秀研究队伍,这支队伍和实验室在国家“十五”期间承担了院知识创新重大项目“纳米电子束曝光系统实用化”和其他的一些课题并且取得了良好的科研成果。

    课题组在长期的工作中成果显著,曾获中科院科技进步二等奖两项,三等奖一项和成果奖多项。

 



·电子束缩小投影曝光技术组-实验室简介 [2006-11-29]
 
0.38713097572327